रासायनिक वाष्प इनफिल्‍ट्रेशन (सीवीआई) रिएक्टर

रासायनिक वाष्प इनफिल्‍ट्रेशन (सीवीआई) रिएक्टर

सीवीआई रिएक्टर का इस्तेमाल सीवीआई प्रक्रिया को पूरा करने के लिए किया जाता है, जिसमें गैसीय प्रीकर्सरों को हीटेड पोरस प्रीफार्म के अंदर भेजा जाता है,  उन्हें कम दबाव (1-20 m.Bar) और उच्च तापमान (800-1400 ° सें) में अनुक्रिया हेतु छोड़ा जाता है ताकि कठोर सिरेमिक मैट्रिक्स कंपोजिट (सीएमसी) प्राप्त करें । यह सुविधा 2005 में संस्थापित की गई है और रिएक्टर सुविधा के प्रचालन और रखरखाव में एक दशक से अधिक अनुभव हासिल कर लिया है।

CHEMICAL VAPOUR INFILTRATION (CVI) REACTOR1

 

  उपकरण का विवरण

 

 मुख्‍य विशेषताएं

 

  लागू किए गए क्षेत्र

 

 

  • SiC, PyC, BN, B4C, Si3N4 और संबंधित सामग्री के लिए उपयुक्त सीवीआई / सीवीडी रिएक्टर
  • एक कार्यशील क्षेत्र 850 मिमी व्यास के साथ 960 मिमी की ऊंचाई के टॉप-लोडिंग रिएक्टर
  • सभी ग्रेफाइट, कार्य क्षेत्र 1 और 300 mbar. के बीच दबावों पर 1,400ºC तक प्रचालन के लिए उपयुक्त है।
  • सबस्ट्रेट्स और घटकों को घूर्णन प्लेटफार्म पर चलाए गए।

 

  •  कार्य क्षेत्र: 850 मिमी व्यास x 950 मिमी की ऊंचाई
  • तापमान रेंज: 800-1,400ºC
  • दबाव रेंज: 2-300m bar
  • दबाव माप: पूर्ण दबाव ट्रांसड्यूसर
  • फ़ीड गैस: Ar, N2, BCl3, NH3, CH4
  • फ़ीड तरल पदार्थ: CH3SiCl3
  • प्रवाह नियंत्रण: मास फ्लो नियंत्रक

 

  • सीएमसी निर्माण (उदा.  Cf/SiC, SiCf/SiC, Cf/C, Cf/Si3N4 etc.,)
  • सीवीडी कोटिंग्स
  • अन्य प्रक्रियाओं से प्राप्त झरझरा सामग्री का घनत्व
  • सामरिक क्षेत्रों के लिए सीएमसी घटक (रक्षा, ऊर्जा, अंतरिक्ष, वांतरिक्ष)
  • हाइब्रिड सम्मिश्र

पिछला नवीनीकरण : 28-09-2020 03:39:41pm