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हॉट-फिलामेंट रासायनिक वाष्प जमाव
हॉट-फिलामेंट के रासायनिक वाष्प जमाव (एचएफसीवीडी) एक सरल और लागत प्रभावी विधि है जिसका प्रयाग विभिन्न पदार्थों को जमा करने के लिए किया गया है। एचएफसीवीडी तकनीक में, प्रतिरोधी गर्म धातुयुक्त फिलामेंट (जैसे टंगस्टन, रीनियम या टैंटलम) का प्रयोग करने के लिए आवश्यक रिएक्टिव प्रिकर्सरों का उत्पादन करने के लिए स्रोत गैस के अणुओं को तापीय/उत्प्रेरित रूप से अलग किया जाता है। अन्य सीवीडी तकनीकों की तुलना में हॉट-फिलामेंट सीवीडी अधिक लाभप्रद है। सीवीडी द्वारा विकसित ग्रैफीन की कम लागत और बड़े क्षेत्र जमाव की क्षमता के कारण आकर्षित कर रहा है। इस तकनीक का प्रयोग करते हुए मोनोलेयर, बई-लेयर और मल्टीलेयर ग्रैफीन को क्यू फ़ॉइल्स (2" X 2") पर उच्च एकरूपता के साथ विकसित किया गया है।
