क्‍लास 10,000 स्‍वच्‍छ कक्ष

विभिन्न प्रकार के वेफर्स पर माइक्रोन आकार के उपकरणों के संविरचन के लिए 10,000 क्‍लास स्‍वच्‍छ कक्ष की संसुविधा स्थापित की गई है। इसमें एक मास्‍क अलाइनर और एक स्पिन कोटर है। इन सुविधाओं का उपयोग (i) चुंबकीय संवेदक और माइक्रो फ्लुइडिक्स के संविरचन और (ii) 4 माइक्रोन µm.तक कम करने की विशेषता के साथ डिवाइस पैटर्निंग में किया जा रहा है।

मास्‍क संरेखक

फोटोमास्क संरेखक का उपयोग वेफर को पैटर्न हस्तांततरण करने के लिए किया जाता है। एक अपेक्षित पैटर्न मास्‍क होल्‍डर पर लगाया जाता है और फोटोरेसिस्‍ट के साथ लेपित नमूना फोटोलिथोग्राफी प्रक्रिया में यूवी एक्सपोजर के लिए मास्‍क के साथ संरेखित किया गया । इस मास्‍क संरेखण के साथ, संरेखण वियोजन 1 माइक्रोन कम हासिल किया जा सकता है। इस उपकरण में समायोज्य तीव्रता स्तर के साथ 350 W NUV (365 - 400 एनएम) मर्क्‍यूरी लैम्‍प है। तीन एक्सपोज़र मोड संभव हैं - नरम संपर्क, कठिन संपर्क और निकटता। डिवाइस के संविरचन के लिए 4" वेफर्स तक नमूनें किए जा सकते हैं।

निर्माण (मेक) : बनाओ: ओएआई मॉडल 200

स्पिन कोटर

यह एक अर्ध-स्वचालित कोटर हैं जो 150 मि मी सबस्टेट्स प्रोसेसिंग में सक्षम है। र्अज़ी टच सॉफ्टवेयर है, जो प्रत्‍येक के 40 स्‍टेपों के साथ 200 प्रक्रियाओं को स्टोर करने की अनुमति देता है। रोटेशन की अधिकतम गति 8000 rpm ± 1 rpm है।

निर्माण (मेक): लैब स्पिन 6

Mask aligner

Lab Spin 6 spin coater

4” patterned wafer